专利摘要
低聚物去除剂
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按重量份计，其原料配方如下：二元羧酸的二（C1-C4）烷基酯10~20份；芳香族二（C1-C4）羧酸14~26份；脂族二醇或脂族多元醇30~50份；双官能磺基化单体10~20份；聚醚10~30份；聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯15~100份。本发明的低聚物去除剂与聚酯纤维有极佳的结合力，能抑制低聚物向纤维表面的迁移。发明通过加入聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯，产生了良好的协同效应，增强了染色液的分散性能，并能更好地抑制染液中的凝聚物向纤维表面的吸附，从而解决了聚酯低聚物在染色工艺中产生的问题。
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